產品技術

A. 液態材料

電漿切割保護液

電漿切割使用反應性氣體(如 SF₆、CF₄)進行乾式蝕刻,在晶圓切割製程中移除指定區域的材料。相較於刀輪切割,電漿切割可降低機械接觸造成的應力,為超薄晶圓及高脆性材料的加工提供不同的製程選擇。

電漿切割保護液適用於包含表面塗佈、雷射預開槽、電漿乾蝕刻及後續清洗的製程流程。實際使用方式與材料適配條件,應依客戶設備及驗證結果確認。

低機械應力
以乾式蝕刻進行材料移除,減少刀輪直接接觸晶圓所造成的機械應力。
精密切割應用
針對窄切割道、超薄晶圓及易脆材料的製程設計提供評估方向。
流程整合
對應保護液塗佈、雷射開槽、電漿切割及清洗等製程步驟。
使用情境|晶圓電漿切割流程

保護液塗佈、雷射開槽、電漿切割與清洗流程示意。

 

圖中所示雷射開槽與電漿切割條件為製程示意,不應直接視為 AWL079L 的保證適用條件。

製程比較|電漿切割與傳統切割
比較項目 電漿切割 刀輪切割 雷射切割
切縫寬度 最小可 <3 μm 20–40 μm 約 10–20 μm
應力/裂縫 極低(無機械力) 高,易產生崩邊 熱影響可致微裂紋
可切材料厚度 薄晶圓與脆性材料最佳 厚 Si 最佳 薄片較佳
生產效率 適合大量圖案批量並行製程 單道逐線 單道掃描
成本 初期設備高,但大批量成本最低 中 中至高

註:此表為原有製程圖所列之概略比較,不代表 AWL079L 產品本身的測試結果;實際切縫、產能、成本與材料相容性須依設備及製程條件驗證。

AWL079L|產品技術規格

以下為原始資料所列之代表性物性及外觀資訊。

項目 AWL079L
pH 值 7.0 ± 0.5
黏度(cP) 100 ± 50
觸變指數(T.I.) —
S.C.(%)/1.5 h 25 ± 5
355 nm 吸收度 60
透光率(T%) >85
霧度(%) 2
Lab 色彩值 L* 93
Lab 色彩值 a* —
Lab 色彩值 b* —
外觀 淡黃色液體
包裝及儲存5 L、20 L HDPE 桶裝。

註:上述數據僅供參考,非出貨保證規格;實際規格請以各產品最新技術資料表(TDS)為準。

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