产品技术

A. 液态材料

电浆切割保护液

等离子体切割使用反应性气体(如 SF₆、CF₄)进行干法蚀刻,在晶圆切割工艺中去除指定区域的材料。相较于刀片切割,等离子体切割可降低机械接触造成的应力,为超薄晶圆及高脆性材料加工提供不同的工艺选择。

等离子体切割保护液适用于包含表面涂布、激光预开槽、等离子体干法蚀刻及后续清洗的工艺流程。实际使用方式与材料适配条件,应根据客户设备及验证结果确认。

低机械应力
通过干法蚀刻去除材料,减少刀片直接接触晶圆造成的机械应力。
精密切割应用
为窄切割道、超薄晶圆及易脆材料的工艺设计提供评估方向。
工艺整合
对应保护液涂布、激光开槽、等离子体切割及清洗等工艺步骤。
使用场景|晶圆等离子体切割流程

保护液涂布、激光开槽、等离子体切割与清洗流程示意。

 

图中的激光开槽与等离子体切割条件属于工艺示意,不应直接视为 AWL079L 的保证适用条件。

工艺比较|等离子体切割与传统切割
比较项目 等离子体切割 刀片切割 激光切割
切缝宽度 最小可 <3 μm 20–40 μm 约 10–20 μm
应力/裂纹 极低(无机械力) 高,易产生崩边 热影响可能导致微裂纹
可切材料厚度 薄晶圆与脆性材料较适用 厚 Si 较适用 薄片较适用
生产效率 适合大量图形的批量并行加工 逐道切割 单道扫描
成本 初期设备投入高,大批量成本可降低 中 中至高

注:本表为原有工艺图提供的概略比较,不代表 AWL079L 产品本身的测试结果;实际切缝、产能、成本与材料兼容性应根据设备及工艺条件验证。

AWL079L|产品技术规格

以下为原始资料列出的代表性物性及外观信息。

项目 AWL079L
pH 值 7.0 ± 0.5
黏度(cP) 100 ± 50
触变指数(T.I.) —
S.C.(%)/1.5 h 25 ± 5
355 nm 吸收度 60
透光率(T%) >85
雾度(%) 2
Lab 色彩值 L* 93
Lab 色彩值 a* —
Lab 色彩值 b* —
外观 淡黄色液体
包装与储存5 L、20 L HDPE 桶装。

注:上述数据仅供参考,不构成出货保证规格;实际规格请以各产品最新技术资料表(TDS)为准。

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