产品技术

E. 半导体胶带

Non-UV 研磨胶带

晶圆背面研磨(Back Grinding)时,胶带贴附在晶圆电路面,提供防水、缓冲和固定功能。本类产品无需 UV 曝光设备,涵盖 NO 与 NT 两个产品系列。
工艺保护
帮助阻隔研磨水并维持晶圆定位。
缓冲与翘曲控制
通过胶层和缓冲设计匹配凸块结构、应力及翘曲需求。
Non-UV 移除
适用于未配置 UV 解粘设备的工艺,需结合剥离温度与条件选型。
工艺与应用示意
Wafer back grinding process illustration
NO 系列|常规与凸块晶圆研磨保护
规格项目 NO205-BC NO170-TC NO130-TC
胶层厚度(μm) 40 70 30
膜厚(μm) 165 100 100
基材 PO PO PO
晶圆粘着力 @25°C(gf/inch) 150 200 150
晶圆粘着力 @50°C(gf/inch) 40 <50 <50
应用特点 焊线晶圆保护 小凸点晶圆保护 一般晶圆防护
NT 系列|厚胶层凸块保护
规格项目 NT595-DL
胶层厚度(μm) 520
膜厚(μm) 75
基材 PET
晶圆粘着力 @25°C(gf/inch) 150
晶圆粘着力 @50°C(gf/inch) <50
应用特点 大凸点晶圆保护
常见供货尺寸
230/330 mm × 50/100 m(依型号及订购条件确认)
注:以上数据仅供参考,并非出货保证规格;实际规格请以各产品最新 TDS 为准。
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